性能飞跃!纳芯微新一代CSP MOS NPM12017A守卫锂保安全

发布时间:2025-03-12 15:15
作者:AMEYA360
来源:纳芯微
阅读量:414

  纳芯微正式发布全新一代CSP封装12V共漏极双N沟道MOSFET——NPM12017A系列,该系列产品是对纳芯微已量产的CSP MOS的完美升级与补充。新一代CSP MOS进一步优化了性能表现,显著提升了电气与极限能力。以首发产品NPM12017A为例,典型阻值相比上一代降低了26%,温升降低近30%,极限耐受能力如短路及雪崩能力等提升近50%,达到国际领先水准。同时,凭借12寸特色专利工艺,NPM12017A在极具性价比的同时,还能提供充足的产能保障。

  该系列延续了上一代NPM12023A的产品极限能力和优异的封装机械强度,解决了传统CSP封装芯片机械强度低、雪崩能量小、生产组装加工困难等问题。为手机、平板以及智能穿戴等便携式锂电管理应用提供更安全、可靠的解决方案,助力客户简化设计。

性能飞跃!纳芯微新一代CSP MOS NPM12017A守卫锂保安全

  卓越性能:助力锂电保护实现大功率、小型化需求

  随着智能手机、平板电脑等便携式设备的快充功率从3-5W跃升至100W以上,厂商和客户对锂电池快速充电功率/电流的需求持续提升,相应要求采用超低阻值的MOSFET产品以降低锂电池充放电路径的功耗,进而提升电池系统性能。

  全新一代CSP封装NPM12017A基于上一代自有知识产权的创新芯片结构上,进一步优化设计,实现相同封装下内阻降低26%,温升下降近30%,在降低功耗的同时有效降低了系统温升和发热量,性能领先业内水平。同时,其短路能力提升40%(短路电流达400A),雪崩能力提升67%(达50A),兼顾超低阻抗与优异极限电气特性,为锂电设备提供更全面可靠的保护。

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  此外,NPM12017A克服传统CSP封装在机械强度与雪崩能量方面的不足,耐受超60N机械压力,有效防止芯片在生产组装中的翘曲与裂片等问题,显著提升产品可靠性与安全性。


  领先设计:突破传统封装的工艺限制

  便携式锂电设备向小型化、轻薄化发展,对系统尤其是MOSFET的体积提出更高要求。在传统晶圆级CSP封装双N沟道MOS产品中,硅基材的电阻在电池管理应用中的总电阻占比较大。为降低衬底电阻,一般会采用芯片减薄工艺,但这会显著削弱产品的机械强度,造成芯片在生产组装过程中翘曲、变形,甚至产生裂纹,从而导致应用端不良等问题。针对机械强度不足的问题,部分解决方案会采用其他材料加厚的方式来增加机械强度,但这会带来成本的增加以及不同材质的兼容性风险。

  纳芯微全新CSP封装系列在设计之初即针对这一问题进行了优化。通过调整产品结构,使导通电流平行于芯片表面,缩短电流路径,从而降低导通电阻,从根源上解决了CSP封装MOSFET的机械强度问题,在兼顾轻薄化、小型化的基础上,最大程度减少芯片使用过程中的变形、裂片等问题,确保产品的可靠性与安全性。

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  简化系统设计:加速客户产品上市

  纳芯微全新CSP封装MOSFET不仅在性能上实现突破,还在设计上进行了优化。其共漏极双N沟道结构简化了电路设计,可直接Pin to Pin替代上一代产品NPM12023A,即可实现性能升级,有效缩短开发周期,助力客户更快地将高性能产品推向市场。

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