MOS管封装类型及选型

Release time:2024-02-26
author:AMEYA360
source:网络
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  选择到一款正确的MOS管,可以很好地控制生产制造成本,最为重要的是,为产品匹配了一款最恰当的元器件,这在产品未来的使用过程中,将会充分发挥其“螺丝钉”的作用,确保设备得到最高效、最稳定、最持久的应用效果。

MOS管封装类型及选型

  那么面对市面上琳琅满目的MOS管,该如何选择呢?下面,我们就分7个步骤来阐述MOS管的选型要求。

  首先是确定N、P沟道的选择

  MOS管有两种结构形式,即N沟道型和P沟道型,结构不一样,使用的电压极性也会不一样,因此,在确定选择哪种产品前,首先需要确定采用N沟道还是P沟道MOS管。

  在典型的功率应用中,当一个MOS管接地,而负载连接到干线电压上时,该MOS管就构成了低压侧开关。在低压侧开关中,应采用N沟道MOS管,这是出于对关闭或导通器件所需电压的考虑。

  当MOS管连接到总线及负载接地时,就要用高压侧开关。通常会在这个拓扑中采用P沟道MOS管,这也是出于对电压驱动的考虑。

  要选择适合应用的器件,必须确定驱动器件所需的电压,以及在设计中最简易执行的方法。

  第二步是确定电压

  额定电压越大,器件的成本就越高。从成本角度考虑,还需要确定所需的额定电压,即器件所能承受的最大电压。根据实践经验,额定电压应当大于干线电压或总线电压,一般会留出1.2~1.5倍的电压余量,这样才能提供足够的保护,使MOS管不会失效。

  就选择MOS管而言,必须确定漏极至源极间可能承受的最大电压,即最大VDS。由于MOS管所能承受的最大电压会随温度变化而变化,设计人员必须在整个工作温度范围内测试电压的变化范围。额定电压必须有足够的余量覆盖这个变化范围,确保电路不会失效。

  此外,设计工程师还需要考虑其他安全因素:如由开关电子设备(常见有电机或变压器)诱发的电压瞬变。另外,不同应用的额定电压也有所不同;通常便携式设备选用20V的MOS管,FPGA电源为20~30V的MOS管,85~220V AC应用时MOS管VDS为450~600V。

  第三步为确定电流

  确定完电压后,接下来要确定的就是MOS管的电流。需根据电路结构来决定,MOS管的额定电流应是负载在所有情况下都能够承受的最大电流;与电压的情况相似,MOS管的额定电流必须能满足系统产生尖峰电流时的需求。

  电流的确定需从两个方面着手:连续模式和脉冲尖峰。在连续导通模式下,MOS管处于稳态,此时电流连续通过器件。脉冲尖峰是指有大量电涌(或尖峰电流)流过器件。一旦确定了这些条件下的最大电流,只需直接选择能承受这个最大电流的器件便可。

  选好额定电流后,还必须计算导通损耗。在实际情况下,MOS管并不是理想的器件,因为在导电过程中会有电能损耗,也就是导通损耗。MOS管在“导通”时就像一个可变电阻,由器件的导通电阻RDS(ON)所确定,并随温度而显著变化。

  器件的功率损耗PTRON=Iload2×RDS(ON)计算(Iload:最大直流输出电流),由于导通电阻会随温度变化,因此功率耗损也会随之按比例变化。对MOS管施加的电压VGS越高,RDS(ON)就会越小;反之RDS(ON)就会越高。

  对系统设计人员来说,这就需要折中权衡。

  对便携式设计来说,采用较低的电压即可(较为普遍);而对于工业设计来说,可采用较高的电压。需要注意的是,RDS(ON)电阻会随着电流轻微上升。

  技术对器件的特性有着重大影响,因为有些技术在提高最大VDS(漏源额定电压)时往往会使RDS(ON)增大。对于这样的技术,如果打算降低VDS和RDS(ON),那么就得增加晶片尺寸,从而增加与之配套的封装尺寸及相关的开发成本。业界现有好几种试图控制晶片尺寸增加的技术,其中最主要的是沟道和电荷平衡技术。

  在沟道技术中,晶片中嵌入了一个深沟,通常是为低电压预留的,用于降低导通电阻RDS(ON)。为了减少最大VDS对RDS(ON)的影响,开发过程中采用了外延生长柱/蚀刻柱工艺。例如,飞兆半导体开发的SupeRFET技术,针对RDS(ON)的降低而增加了额外的制造步骤。

  这种对RDS(ON)的关注十分重要,因为当标准MOSFET的击穿电压升高时,RDS(ON)会随之呈指数级增加,并且导致晶片尺寸增大。SuperFET工艺将RDS(ON)与晶片尺寸间的指数关系变成了线性关系。

  这样,SuperFET器件便可在小晶片尺寸,甚至在击穿电压达到600V的情况下,实现理想的低RDS(ON)。结果是晶片尺寸可减小达35%。而对于最终用户来说,这意味着封装尺寸的大幅减小。

  第四步是确定热要求

  在确定电流之后,就要计算系统的散热要求。设计人员必须考虑两种不同的情况:最坏情况和真实情况。建议采用针对最坏情况的计算结果,因为这个结果提供更大的安全余量,能确保系统不会失效。在MOS管的资料表上还有一些需要注意的测量数据,比如封装器件的半导体结与环境之间的热阻,以及最大的结温。

  器件的结温等于最大环境温度加上热阻与功率耗散的乘积,即结温=最大环境温度+(热阻×功率耗散)。根据这个方程可解出系统的最大功率耗散=I2×RDS(ON)。

  由于设计人员已确定将要通过器件的最大电流,因此可以计算出不同温度下的RDS(ON)。值得注意的是,在处理简单热模型时,设计人员还必须考虑半导体结/器件外壳及外壳/环境的热容量;即要求印刷电路板和封装不会立即升温。

  雪崩击穿(指半导体器件上的反向电压超过最大值,并形成强电场使器件内电流增加)形成的电流将耗散功率,使器件温度升高,而且有可能损坏器件。半导体公司都会对器件进行雪崩测试,计算其雪崩电压,或对器件的稳健性进行测试。

  计算额定雪崩电压有两种方法;一是统计法,另一是热计算。而热计算因为较为实用而得到广泛采用。除计算外,技术对雪崩效应也有很大影响。例如,晶片尺寸的增加会提高抗雪崩能力,最终提高器件的稳健性。对最终用户而言,这意味着要在系统中采用更大的封装件。

  第五步是确定开关性能

  选择MOS管的最后一步是确定其开关性能。影响开关性能的参数有很多,但最重要的是栅极/漏极、栅极/源极及漏极/源极电容。因为在每次开关时都要对这些电容充电,会在器件中产生开关损耗;MOS管的开关速度也因此被降低,器件效率随之下降;其中,栅极电荷(Qgd)对开关性能的影响最大。

  为计算开关过程中器件的总损耗,设计人员必须计算开通过程中的损耗(Eon)和关闭过程中的损耗(Eoff),进而推导出MOS管开关总功率:Psw=(Eon+Eoff)×开关频率。

  第六步为封装因素考量

  不同的封装尺寸MOS管具有不同的热阻和耗散功率,需要考虑系统的散热条件和环境温度(如是否有风冷、散热器的形状和大小限制、环境是否封闭等因素),基本原则就是在保证功率MOS管的温升和系统效率的前提下,选取参数和封装更通用的功率MOS管。

  常见的MOS管封装有:

  ①插入式封装:TO-3P、TO-247、TO-220、TO-220F、TO-251、TO-92;

  ②表面贴装式:TO-263、TO-252、SOP-8、SOT-23、DFN。

  不同的封装形式,MOS管对应的极限电流、电压和散热效果都会不一样,简单介绍如下。

  TO-3P/247:是中高压、大电流MOS管常用的封装形式,产品具有耐压高、抗击穿能力强等特点,适于中压大电流(电流10A以上、耐压值在100V以下)在120A以上、耐压值200V以上的场所中使用。

  TO-220/220F:这两种封装样式的MOS管外观差不多,可以互换使用,不过TO-220背部有散热片,其散热效果比TO-220F要好些,价格相对也要贵些。这两个封装产品适于中压大电流120A以下、高压大电流20A以下的场合应用。

  TO-251:该封装产品主要是为了降低成本和缩小产品体积,主要应用于中压大电流60A以下、高压7N以下环境中。

  TO-92:该封装只有低压MOS管(电流10A以下、耐压值60V以下)和高压1N60/65在采用,主要是为了降低成本。

  TO-263:是TO-220的一个变种,主要是为了提高生产效率和散热而设计,支持极高的电流和电压,在150A以下、30V以上的中压大电流MOS管中较为多见。

  TO-252:是目前主流封装之一,适用于高压在7N以下、中压在70A以下环境中。

  SOP-8:该封装同样是为降低成本而设计,一般在50A以下的中压、60V左右的低压MOS管中较为多见。

  SOT-23:适于几A电流、60V及以下电压环境中采用,其又分有大体积和小体积两种,主要区别在于电流值不同。

  DFN:体积上,较SOT-23大,但小于TO-252,一般在低压和30A以下中压MOS管中有采用,得益于产品体积小,主要应用于DC小功率电流环境中。

  第七步要选择好品牌

  MOS管的生产企业很多,大致说来,主要有欧美系、日系、韩系、台系、国产几大系列。

  欧美系代表企业:IR、ST、仙童、安森美、TI、PI、英飞凌等;

  日系代表企业:东芝、瑞萨、新电元等;

  韩系代表企业:KEC、AUK、美格纳、森名浩、威士顿、信安、KIA等;

  台系代表企业:APEC、CET;

  国产代表企业:吉林华微、士兰微、华润华晶、东光微、深爱半导体等。

  在这些品牌中,以欧美系企业的产品种类最全、技术及性能最优,从性能效果考虑,是为MOS管的首选;以瑞萨、东芝为代表的日系企业也是MOS管的高端品牌,同样具有很强的竞争优势;这些品牌也是市面上被仿冒最多的。另外,由于品牌价值、技术优势等原因,欧美系和日系品牌企业的产品价格也往往较高。

  韩国和中国台湾的MOS管企业也是行业的重要产品供应商,不过在技术上,要稍弱于欧美及日系企业,但在价格方面,较欧美及日系企业更具优势;性价比相对高很多。

  而在中国大陆,同样活跃着一批本土企业,他们借助更低的成本优势和更快的客户服务响应速度,在中低端及细分领域具有很强的竞争力,部分实现了国产替代;目前也在不断冲击高端产品线,以满足本土客户的需求。另外,本土企业还通过资本运作,成功收购了安世半导体等国际知名的功率器件公司,将更好地满足本土对功率器件的需求。

  小结

  小到选N型还是P型、封装类型,大到MOSFET的耐压、导通电阻等,不同的应用需求千变万化,工程师在选择MOS管时,一定要依据电路设计需求及MOS管工作场所来选取合适的MOS管,从而获得最佳的产品设计体验。当然,在考虑性能的同时,成本也是选择的因素之一,只有高性价比的产品,才能让工程师设计的产品在品质与收益中达到平衡。

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MOS管选型指南:如何选择合适的MOS管?
       MOS管(Metal Oxide Semiconductor Field Effect Transistor)是一种常用的半导体器件,具有低开关损耗、高开关速度、低驱动电压等优点,被广泛应用于电源管理、驱动电路、放大器等领域。但是,市面上MOS管品种繁多,如何选择合适的MOS管成为了工程师们面临的难题。本文将为您介绍MOS管选型的几个关键要素,帮助您选择合适的MOS管。  1.电压和电流  MOS管的电压和电流是选型时需要考虑的重要因素。电压是指MOS管能承受的较大电压,一般分为栅极-源极电压(Vgs)和漏极-源极电压(Vds),选型时需要根据实际应用场景选择合适的电压等级。电流是指MOS管能承受的较大电流,也是选型时需要考虑的重要因素,需要根据实际应用场景选择合适的电流等级。  2.导通电阻  导通电阻是指MOS管在导通状态下的电阻大小,也是选型时需要考虑的重要因素。导通电阻越小,MOS管的导通能力越强,同时也会带来更小的开关损耗。因此,在选型时需要根据实际应用场景选择合适的导通电阻。  3.开关速度  开关速度是指MOS管从关断到导通或从导通到关断的时间,也是选型时需要考虑的重要因素。开关速度越快,MOS管的响应能力越强,同时也会带来更小的开关损耗。因此,在选型时需要根据实际应用场景选择合适的开关速度。  4.温度特性  温度特性是指MOS管在不同温度下的性能表现,也是选型时需要考虑的重要因素。MOS管的温度特性越好,其性能表现越稳定。因此,在选型时需要根据实际应用场景选择具有良好温度特性的MOS管。  综上所述,MOS管选型需要考虑的因素有很多,需要根据实际应用场景选择合适的MOS管。同时,在选型时需要注意MOS管的品牌、质量和可靠性等因素,选择具有优良品质和可靠性的MOS管,才能确保系统的稳定性和可靠性。
2025-03-31 15:07 reading:205
常见耗尽型MOS管应用场景
  耗尽型MOS管(Metal-Oxide-Semiconductor Field-Effect Transistor,简称MOSFET)在电路设计中具有多种重要应用,这些应用主要得益于其独特的电气特性和工作原理。  一、作为电流源  耗尽型MOS管可以作为电流源使用。当MOS管的栅极电压恒定时,通过它的漏极电流也将恒定。因此,可以通过调节栅极电压来控制漏极电流的大小。这种电流源可以应用于各种场合,比如运放的输入级、电源稳压电路等。在这些应用中,耗尽型MOS管的高输入阻抗和低输出阻抗特性使得它能够提供稳定的电流输出,同时减小对输入信号的影响。  二、作为开关  耗尽型MOS管也可以作为开关使用。当栅极电压大于阈值电压时,MOS管处于导通状态,可以通过漏极和源极之间传导电流。而当栅极电压低于阈值电压时,MOS管处于截止状态,不会有电流通过。因此,可以通过控制栅极电压来控制MOS管的导通和截止,实现开关功能。这种开关电路广泛应用于各种数码产品、电源开关等场合。耗尽型MOS管的快速开关速度和高可靠性使其成为这些应用中的理想选择。  三、作为放大器  耗尽型MOS管还可以作为放大器使用。当MOS管处于导通状态时,漏极电流与栅极电压之间的关系符合一定的函数关系。通过调节栅极电压,可以控制漏极电流的大小,从而实现电流放大功能。这种放大电路可以应用于音频放大器、功率放大器等场合。耗尽型MOS管的放大特性使得它能够在这些应用中提供稳定的增益和线性度。  四、在开环反馈电路中的应用  在开环反馈电路中,耗尽型MOS管的漏极电流与输入电压之间的关系可以通过反馈电路进行调整。通过调整反馈电路中的元件数值,可以实现电路的增益、频率响应等特性的调节。这种应用使得耗尽型MOS管在模拟电路设计中具有更大的灵活性。  五、作为电压比较器  耗尽型MOS管还可以作为电压比较器使用。当输入电压与参考电压进行比较时,通过调节栅极电压,可以控制MOS管的导通与截止,从而实现电压比较的功能。这种电压比较器可以应用于过压保护、欠压保护等场合。耗尽型MOS管的高输入阻抗和低功耗特性使得它在这些应用中具有出色的性能。  六、在开关电源中的应用  在开关电源中,耗尽型MOS管作为开关管使用,可以实现高效率的能量转换。通过控制MOS管的导通和截止,可以实现电源输出的稳定和高效。耗尽型MOS管的快速开关速度和高可靠性使其成为开关电源设计中的理想选择。  七、在逆变器电路中的应用  逆变器电路将直流电源转换为交流电源,常见用于太阳能发电系统和无线电通信系统等。耗尽型MOS管作为逆变器的关键元件之一,通过控制MOS管的导通和截止,可以实现输出交流电压的控制。这种应用使得耗尽型MOS管在可再生能源和通信系统等领域中具有重要作用。  八、在电机驱动电路中的应用  通过控制耗尽型MOS管的导通和截止,可以控制电机的转速和转向。这种电机驱动电路广泛应用于各种电动车、机器人等设备。耗尽型MOS管的高可靠性和快速响应特性使得它在这些应用中能够提供精确的电机控制。  九、在电压稳压器中的应用  通过控制耗尽型MOS管的导通和截止,可以调节输出电压的大小,实现电压的稳定。电压稳压器被广泛应用于各种电子设备中,保证设备的正常工作。耗尽型MOS管的低漏电流和低功耗特性使得它在这些应用中具有出色的性能。  综上所述,耗尽型MOS管在电路设计中具有多种重要应用。其高输入阻抗、低输出阻抗、快速开关速度和高可靠性等特性使得它成为电子领域中不可或缺的元件之一。随着科技的发展和应用的需求不断增加,耗尽型MOS管的应用将会更加广泛和多样化。
2025-03-28 14:49 reading:219
MOS管的应用与判断方法
  MOS管是一种常用的半导体器件,广泛应用于电子产品中。它具有体积小、功耗低、速度快等优点,因此在数字电路、模拟电路、功率电子等领域得到了广泛的应用。但是,由于MOS管的参数比较多,判断其性能是否符合要求也比较复杂。下面将介绍MOS管的应用以及判断方法。  MOS管的应用  MOS管是一种常用的半导体器件,主要应用于数字电路、模拟电路、功率电子等领域。在数字电路中,MOS管常用于构建逻辑门电路和存储器电路。在模拟电路中,MOS管常用于构建放大器、滤波器等电路。在功率电子中,MOS管常用于构建开关电源、逆变器等电路。此外,MOS管还被广泛应用于LCD显示器、LED照明等领域。  MOS管的判断方法  MOS管的参数比较多,判断其性能是否符合要求也比较复杂。下面将介绍MOS管的判断方法。  静态参数判断  静态参数是指MOS管在静态工作状态下的参数,包括漏极电流、开启电压、截止电压等。这些参数可以通过测试仪器进行测量,以判断MOS管是否符合要求。  动态参数判断  动态参数是指MOS管在动态工作状态下的参数,包括开关速度、输出电容等。这些参数可以通过示波器进行测量,以判断MOS管是否符合要求。  温度特性判断  MOS管的性能会受到温度的影响,因此需要在不同温度下进行测试,以判断MOS管的温度特性是否符合要求。  可靠性判断  MOS管的可靠性是指其在长期使用过程中的稳定性和可靠性。可通过进行寿命测试、热稳定性测试等方式进行判断。  总之,MOS管是一种常用的半导体器件,具有广泛的应用领域。判断MOS管的性能是否符合要求需要考虑静态参数、动态参数、温度特性以及可靠性等因素。
2025-03-27 16:51 reading:238
MOS管小电流发热怎么处理?
  Source、Drain、Gate —— 场效应管的三极:源级S、漏级D、栅级G。(这里不讲栅极GOX击穿了啊,只针对漏极电压击穿)  先讲测试条件,都是源栅衬底都是接地,然后扫描漏极电压,直至Drain端电流达到1uA。所以从器件结构上看,它的漏电通道有三条:Drain到source、Drain到Bulk、Drain到Gate。  Drain→Source穿通击穿:  这个主要是Drain加反偏电压后,使得Drain/Bulk的PN结耗尽区延展,当耗尽区碰到Source的时候,那源漏之间就不需要开启就形成了通路,所以叫做穿通(punch through)。  那如何防止穿通呢?这就要回到二极管反偏特性了,耗尽区宽度除了与电压有关,还与两边的掺杂浓度有关,浓度越高可以抑制耗尽区宽度延展,所以flow里面有个防穿通注入(APT:AnTI Punch Through),记住它要打和well同type的specis。  当然实际遇到WAT的BV跑了而且确定是从Source端走了,可能还要看是否 PolyCD或者Spacer宽度,或者LDD_IMP问题了,那如何排除呢?这就要看你是否NMOS和PMOS都跑了?POLY CD可以通过Poly相关的WAT来验证。对吧?  对于穿通击穿,有以下一些特征:  ✦穿通击穿的击穿点软,击穿过程中,电流有逐步增大的特征,这是因为耗尽层扩展较宽,产生电流较大。另一方面,耗尽层展宽大容易发生DIBL效应,使源衬底结正偏出现电流逐步增大的特征。  ✦穿通击穿的软击穿点发生在源漏的耗尽层相接时,此时源端的载流子注入到耗尽层中,被耗尽层中的电场加速达到漏端,因此,穿通击穿的电流也有急剧增大点,这个电流的急剧增大和雪崩击穿时电流急剧增大不同,这时的电流相当于源衬底PN结正向导通时的电流,而雪崩击穿时的电流主要为PN结反向击穿时的雪崩电流,如不作限流,雪崩击穿的电流要大。  ✦穿通击穿一般不会出现破坏性击穿。因为穿通击穿场强没有达到雪崩击穿的场强,不会产生大量电子空穴对。  ✦穿通击穿一般发生在沟道体内,沟道表面不容易发生穿通,这主要是由于沟道注入使表面浓度比浓度大造成,所以,对NMOS管一般都有防穿通注入。  ✦一般的,鸟嘴边缘的浓度比沟道中间浓度大,所以穿通击穿一般发生在沟道中间。  ✦多晶栅长度对穿通击穿是有影响的,随着栅长度增加,击穿增大。而对雪崩击穿,严格来说也有影响,但是没有那么显著。  Drain→Bulk雪崩击穿:  这就单纯是PN结雪崩击穿了(Avalanche Breakdown),主要是漏极反偏电压下使得PN结耗尽区展宽,则反偏电场加在了PN结反偏上面,使得电子加速撞击晶格产生新的电子空穴对 (Electron-Hole pair),然后电子继续撞击,如此雪崩倍增下去导致击穿,所以这种击穿的电流几乎快速增大,I-V curve几乎垂直上去,很容烧毁的。(这点和源漏穿通击穿不一样)  那如何改善这个junction BV呢?所以主要还是从PN结本身特性讲起,肯定要降低耗尽区电场,防止碰撞产生电子空穴对,降低电压肯定不行,那就只能增加耗尽区宽度了,所以要改变 doping profile了,这就是为什么突变结(Abrupt junction)的击穿电压比缓变结(Graded junction)的低。这就是学以致用,别人云亦云啊。  当然除了doping profile,还有就是doping浓度,浓度越大,耗尽区宽度越窄,所以电场强度越强,那肯定就降低击穿电压了。而且还有个规律是击穿电压通常是由低 浓度的那边浓度影响更大,因为那边的耗尽区宽度大。公式是BV=K*(1/Na+1/Nb),从公式里也可以看出Na和Nb浓度如果差10倍,几乎其中一 个就可以忽略了。  那实际的process如果发现BV变小,并且确认是从junction走的,那好好查查你的Source/Drain implant了。  Drain→Gate击穿:  这个主要是Drain和Gate之间的Overlap导致的栅极氧化层击穿,这个有点类似GOX击穿了,当然它更像Poly finger的GOX击穿了,所以他可能更care poly profile以及sidewall damage了。当然这个Overlap还有个问题就是GIDL,这个也会贡献Leakage使得BV降低。  上面讲的就是MOSFET的击穿的三个通道,通常BV的case以前两种居多。Off-state下的击穿,也就是Gate为0V的时候,但是有的时候Gate开启下Drain加电压过高也会导致击穿的,我们称之为On-state击穿。这种情况尤其喜欢发生在Gate较低电压时,或者管子刚刚开启时,而且几乎都是NMOS。所以我们通常WAT也会测试BVON。  02、如何处理MOS管小电流发热严重情况?  MOS管,做电源设计,或者做驱动方面的电路,难免要用到MOS管。MOS管有很多种类,也有很多作用。做电源或者驱动的使用,当然就是用它的开关作用。  无论N型或者P型MOS管,其工作原理本质是一样的。MOS管是由加在输入端栅极的电压来控制输出端漏极的电流。MOS管是压控器件它通过加在栅极上的电压控制器件的特性,不会发生像三极管做开关时的因基极电流引起的电荷存储效应,因此在开关应用中,MOS管的开关速度应该比三极管快。  我们经常看MOS管的PDF参数,MOS管制造商采用RDS(ON)参数来定义导通阻抗,对开关应用来说,RDS(ON)也是最重要的器件特性。数据手册定义RDS(ON)与栅极(或驱动)电压VGS以及流经开关的电流有关,但对于充分的栅极驱动,RDS(ON)是一个相对静态参数。一直处于导通的MOS管很容易发热。  另外,慢慢升高的结温也会导致RDS(ON)的增加。MOS管数据手册规定了热阻抗参数,其定义为MOS管封装的半导体结散热能力。RθJC的最简单的定义是结到管壳的热阻抗。  03、MOS管小电流发热的原因  ✦电路设计的问题,就是让MOS管工作在线性的工作状态,而不是在开关状态。这也是导致MOS管发热的一个原因。如果N-MOS做开关,G级电压要比电源高几V,才能完全导通,P-MOS则相反。没有完全打开而压降过大造成功率消耗,等效直流阻抗比较大,压降增大,所以U*I也增大,损耗就意味着发热。这是设计电路的最忌讳的错误。  ✦频率太高,主要是有时过分追求体积,导致频率提高,MOS管上的损耗增大了,所以发热也加大了。  ✦没有做好足够的散热设计,电流太高,MOS管标称的电流值,一般需要良好的散热才能达到。所以ID小于最大电流,也可能发热严重,需要足够的辅助散热片。  ✦MOS管的选型有误,对功率判断有误,MOS管内阻没有充分考虑,导致开关阻抗增大。  04、MOS管小电流发热严重怎么解决  ✦做好MOS管的散热设计,添加足够多的辅助散热片。  ✦贴散热胶。  05、MOS管为什么可以防止电源反接?  电源反接,会给电路造成损坏,不过,电源反接是不可避免的。所以,我们就需要给电路中加入保护电路,达到即使接反电源,也不会损坏的目的。  一般可以使用在电源的正极串入一个二极管解决,不过,由于二极管有压降,会给电路造成不必要的损耗,尤其是电池供电场合,本来电池电压就3.7V,你就用二极管降了0.6V,使得电池使用时间大减。  MOS管防反接,好处就是压降小,小到几乎可以忽略不计。现在的MOS管可以做到几个毫欧的内阻,假设是6.5毫欧,通过的电流为1A(这个电流已经很大了),在他上面的压降只有6.5毫伏。由于MOS管越来越便宜,所以人们逐渐开始使用MOS管防电源反接了。  NMOS管防止电源反接电路:  正确连接时:刚上电,MOS管的寄生二极管导通,所以S的电位大概就是0.6V,而G极的电位,是VBAT,VBAT-0.6V大于UGS的阀值开启电压,MOS管的DS就会导通,由于内阻很小,所以就把寄生二极管短路了,压降几乎为0。  电源接反时:UGS=0,MOS管不会导通,和负载的回路就是断的,从而保证电路安全。  PMOS管防止电源反接电路:  正确连接时:刚上电,MOS管的寄生二极管导通,电源与负载形成回路,所以S极电位就是VBAT-0.6V,而G极电位是0V,PMOS管导通,从D流向S的电流把二极管短路。  电源接反时:G极是高电平,PMOS管不导通。保护电路安全。  连接技巧:NMOS管DS串到负极,PMOS管DS串到正极,让寄生二极管方向朝向正确连接的电流方向。  感觉DS流向是“反”的?仔细的朋友会发现,防反接电路中,DS的电流流向,和我们平时使用的电流方向是反的。  为什么要接成反的?利用寄生二极管的导通作用,在刚上电时,使得UGS满足阀值要求。  为什么可以接成反的?如果是三极管,NPN的电流方向只能是C到E,PNP的电流方向只能是E到C。不过,MOS管的D和S是可以互换的。这也是三极管和MOS管的区别之一。  06、MOS管功率损耗测量  MOSFET/IGBT的开关损耗测试是电源调试中非常关键的环节,但很多工程师对开关损耗的测量还停留在人工计算的感性认知上,PFC MOSFET的开关损耗更是只能依据口口相传的经验反复摸索,那么该如何量化评估呢?  功率损耗的原理图和实测图  一般来说,开关管工作的功率损耗原理图下图所示,主要的能量损耗体现在“导通过程”和“关闭过程”,小部分能量体现在“导通状态”,而关闭状态的损耗很小几乎为0,可以忽略不计。  实际的测量波形图一般下图所示。  MOSFET和PFC MOSFET的测试区别  对于普通MOS管来说,不同周期的电压和电流波形几乎完全相同,因此整体功率损耗只需要任意测量一个周期即可。但对于PFC MOS管来说,不同周期的电压和电流波形都不相同,因此功率损耗的准确评估依赖较长时间(一般大于10ms),较高采样率(推荐1G采样率)的波形捕获,此时需要的存储深度推荐在10M以上,并且要求所有原始数据(不能抽样)都要参与功率损耗计算,实测截图下图所示。
2024-07-17 14:18 reading:591
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