台积电官宣1.6nm,多项新技术同时公布

Release time:2024-04-25
author:AMEYA360
source:台积电
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  台积电三表示,一种名为“A16”的新型芯片制造技术将于 2026 年下半年投入生产,与长期竞争对手英特尔展开对决——谁能制造出世界上最快的芯片。

台积电官宣1.6nm,多项新技术同时公布

  台积电是全球最大的先进计算芯片合同制造商,也是 Nvidia 和苹果的主要供应商,台积电在加利福尼亚州圣克拉拉举行的一次会议上宣布了这一消息,台积电高管表示,人工智能芯片制造商可能是该技术的首批采用者,而不是智能手机制造商。

  分析师告诉路透社,周三宣布的技术可能会让人对英特尔在 2 月份声称的将超越台积电,采用英特尔称之为“14A”的新技术制造世界上最快的计算芯片的说法提出质疑。

  台积电业务发展高级副总裁Kevin Zhang告诉记者,由于人工智能芯片公司的需求,该公司开发新的 A16 芯片制造工艺的速度比预期更快,但没有透露具体客户的名称。

  张说,人工智能芯片公司“真的希望优化他们的设计,以获得我们拥有的每一盎司性能”。

  张说,台积电认为不需要使用ASML的High NA EUV光刻机用于构建 A16 芯片的新型“高 NA EUV”光刻工具机。英特尔上周透露,它计划成为第一个使用这些机器(每台售价 3.73 亿美元)来开发其 14A 芯片的公司。

  台积电还透露了一项从芯片背面为计算机芯片供电的新技术,有助于加快AI芯片的速度,并将于2026年推出。英特尔已经宣布了一项类似的技术,旨在成为其主要竞争优势之一。

  台积电表示,随着台积电行业领先的 N3E 技术现已投入生产,N2 也有望在 2025 年下半年投入生产,台积电推出了 A16,这是其路线图上的下一个技术。A16 将把台积电的 Super Power Rail 架构与其纳米片晶体管结合起来,计划于 2026 年生产。它通过将前端布线资源专用于信号来提高逻辑密度和性能,使 A16 成为具有复杂信号路线和密集电力传输网络的 HPC 产品的理想选择。与台积电的N2P工艺相比,A16将在相同Vdd(正电源电压)下提供8-10%的速度提升,相同速度下功耗降低15-20%,并为数据中心产品提供高达1.10倍的芯片密度提升。

  分析师表示,这些公告让人对英特尔声称将重新夺回世界芯片制造桂冠的说法产生了质疑。

  分析公司 TechInsights 副主席丹·哈奇森 (Dan Hutcheson) 在谈到英特尔时表示:“这是有争议的,但从某些指标来看,我认为他们并不领先。”但 TIRIAS Research 负责人 Kevin Krewell 警告称,英特尔和台积电的技术距离交付技术还需要数年时间,需要证明真正的芯片与其主题演讲相匹配。

  据报道,台积电的新技术在北美的技术会议上宣布的,据介绍,这是公司在北美举办的第三世界会议。据相关报道,公司在会议上还公布了以下技术:

  TSMC NanoFlex 纳米片晶体管创新:台积电即将推出的 N2 技术将与 TSMC NanoFlex 一起推出,这是该公司在设计技术协同优化方面的下一个突破。TSMC NanoFlex 为设计人员提供了 N2 标准单元(芯片设计的基本构建模块)的灵活性,短单元(short cells)强调小面积和更高的功率效率,而高单元(tall cells)则最大限度地提高性能。客户能够在同一设计模块中优化短单元和高单元的组合,调整其设计以实现其应用的最佳功耗、性能和面积权衡。

  N4C 技术:台积电宣布推出 N4C,将台积电的先进技术推向更广泛的应用领域,它是 N4P 技术的延伸,可降低高达 8.5% 的芯片成本,且采用成本低,计划于 2025 年量产。N4C 提供面积高效的基础IP 和设计规则与广泛采用的 N4P 完全兼容,通过减小芯片尺寸而提高产量,为价值层产品迁移到台积电的下一个先进技术节点提供了经济高效的选择。

  CoWoS 、SoIC 和晶圆系统 (TSMC-SoW):台积电的基板晶圆上芯片 (CoWoS ) 允许客户封装更多处理器内核和高带宽内存,成为人工智能革命的关键推动者(HBM) 并排堆叠在一个中介层上。与此同时,我们的集成芯片系统 (SoIC) 已成为 3D 芯片堆叠的领先解决方案,客户越来越多地将 CoWoS 与 SoIC 和其他组件搭配使用,以实现最终的系统级封装 (SiP) 集成。

  借助晶圆系统,台积电提供了一种革命性的新选项,可在 300 毫米晶圆上实现大量芯片,提供更强的计算能力,同时占用更少的数据中心空间,并将每瓦性能提高几个数量级。台积电的首款 SoW 产品是一种基于集成扇出 (InFO) 技术的纯逻辑晶圆,现已投入生产。利用 CoWoS 技术的晶圆上芯片版本计划于 2027 年准备就绪,能够集成 SoIC、HBM 和其他组件,以创建强大的晶圆级系统,其计算能力可与数据中心服务器机架甚至整个服务器相媲美。服务器。

  硅光子集成:台积电正在开发紧凑型通用光子引擎(COUPE)技术,以支持人工智能热潮带来的数据传输爆炸式增长。COUPE 使用 SoIC-X 芯片堆叠技术将电气芯片堆叠在光子芯片之上,从而在芯片间接口处提供最低的阻抗,并且比传统的堆叠方法具有更高的能效。台积电计划在 2025 年使 COUPE 获得小型可插拔产品的资格,然后在 2026 年作为共封装光学器件 (CPO) 集成到 CoWoS 封装中,将光学连接直接引入封装中。

  汽车先进封装:在2023年推出N3AE“Auto Early”工艺后,台积电通过将先进硅与先进封装相集成,继续满足汽车客户对更强计算能力的需求,满足高速公路的安全和质量要求。台积电正在开发适用于高级驾驶辅助系统 (ADAS)、车辆控制和车辆中央计算机等应用的 InFO-oS 和 CoWoS-R 解决方案,目标是在 2025 年第四季度之前获得 AEC-Q100 2 级资格。

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突发!美国撤销台积电南京厂授权!
  当地时间9月2日,据彭博社报道,美国商务部工业与安全局(BIS)已撤销台积电南京厂的“经验证最终用户”(VEU)授权,意味着该厂未来将无法再“自由运送”受美方出口管制覆盖的关键设备与物资。  台积电在声明中表示:“我们已收到美国政府通知,台积电南京厂的VEU授权将自2025年12月31日起正式撤销。我们正在评估情况并采取适当措施,包括与美国政府沟通,但我们仍将全力确保南京厂的持续运作不受影响。”。  VEU授权被撤后,台积电向南京厂供货的上游供应商需就受控货品逐单申请美国许可证,原先的一揽子许可被改为个案审批,带来审批周期与排队不确定性。彭博社称美国主管部门正寻求降低行政负担,但既有许可积压较多,短期难以消除“时间成本”与运营波动。美国商务部工业与安全局(BIS)对此未立即置评。  从经营权重看,台积电在中国大陆的制造占比相对有限;南京厂2018年投产,去年仅贡献台积电总营收的一小部分,最先进量产制程为16nm(属较早商用世代)。即便如此,该厂维持正常运行仍需持续进口设备、备件与化学品,任何许可延宕都会传导至维护、良率与产能保障。  当地时间8月29日,美国商务部工业与安全局(BIS)发布最终规则,宣布撤销三家在华半导体企业的VEU授权。这三家公司分别是英特尔半导体(大连)有限公司、三星中国半导体有限公司,以及SK海力士半导体(中国)有限公司。根据规则,相关变更将在公告发布120天后生效。BIS估计每年新增约1000份许可审批工作量。  与此不同的是,台积电的VEU授权从未在《联邦公报》上公开发布,因此BIS无需像对待其他公司那样进行修订。但总体效果是相同的:一旦VEU撤销生效,向台积电、三星及SK海力士在华工厂供货的厂商都必须主动向美方申请出口许可证,涉及范围涵盖先进制造设备、备件乃至生产过程中消耗的化学品。  撤销VEU授权,本质上就是把原本“一次性放行”的模式,改成了“逐单审批”。过去台积电南京厂能较为顺畅地进口设备和耗材,如今则需要一项一项申请许可证。这意味着备件更换、设备维修或化学品补给的过程都可能被拖慢,厂区运营面临新的不确定性,哪怕生产节点并非最新最先进。  从政策角度看,美国意在通过更严的流程来收紧供应,而不是立刻切断供给。这样一来,美方可以保持对供应链的“节奏控制”:需要时放行,必要时收紧。对台积电南京厂而言,挑战在于如何减少这些不确定性对生产的冲击——比如提前备货、增加替代物料、优化申请节奏、与供应商和美方保持紧密沟通。换句话说,这不是“能不能生产”的问题,而是“生产过程还能不能像以前一样稳定高效”的问题。
2025-09-03 13:48 reading:418
台积电1.4nm提前启动!
  8月29日消息,据台媒《经济日报》报道,台积电中科1.4nm先进制程晶圆厂已经准备建设。  中科管理局27日表示,二期园区扩建水保相关公共工程将赶在9月底前完成,供应链传出,台积电中科新厂预计10月动工,初估总投资金额将达新台币1.2万亿至1.5万亿元(约392亿至490亿美元)  目前已知,包括营造、水泥、厂务工程等相关厂商都已陆续接获通知,台积电中科先进制程建厂工程将在近日招标,随后发包动工,相关作业正如火如荼展开。  环境部昨日召开环评大会,审查通过新竹科学园区宝山二期环境影响差异分析报告,此案攸关台积电2nm厂,主因再生水建设不如预期,台积电须调整使用再生水期程。  竹科与台积电承诺会加强购买海水淡化厂生产的水、不影响新竹地区民生用水,同时竹科也会跨部会协商推动其他再生水,且每两年滚动检讨除生活用水,仍会达到100%使用再生水的终极目标,最终顺利通过环评大会。  台积电先前在技术论坛释出生产据点规划时,1.4纳米制程主要生产据点,即为原兴农球场的台中F25厂,拟规划设立四座厂房,首座厂预计赶在2027年底前完成风险性试产,2028年下半年正式量产,新厂初估营业额可望超过5,000亿元(1169亿人民币)。  供应链进一步指出,中科厂2028年量产的应该是第一期二座1.4纳米制程厂房,后续第二期二座厂,不排除将推进至A10(1纳米)制程。另一方面,台积电在1.4纳米制程推进获得重大突破,稍早已通知供应商备妥1.4纳米所需设备,预定今年先进新竹宝山第二厂装设试产线。  另一方面,台积电在1.4nm制程推进获得重大突破,稍早已通知供应商备妥1.4nm所需设备,预定今年先进新竹宝山第二厂装设试产线。  据了解,台积电原订采用2nm制程的宝山晶圆20厂,其中二厂将改为1.4nm制程与研发线,三厂为1nm制程与研发线、四厂不排除为0.7nm制程与研发线。而中科初步规划四座厂房,第一期两座厂为1.4nm制程,第二期二座厂不排除为1nm制程。  此外,南科管理局目前正筹备开发台南沙仑园区,预计2027年第3季交地给厂商建厂,届时将争取台积电进驻园区投资建厂。据了解,台积电已规划在此投资兴建1nm先进制程基地,以目前土地面积达500公顷来看,初估可兴建10座晶圆厂。  英特尔稍早透露,可能下一代A14(1.4nm)制程将与客户合作,专为代工研发,若届时仍无客户,将可能会放弃继续开发尖端制程代工工艺。三星则将1.4nm制程量产时间,从2027年延后至2029年,专注在提高2nm良率。业界分析,此举将促成台积电加速1.4nm制程布局,以确保市场独占性。
2025-08-29 13:43 reading:393
台积电2nm市场份额95%!
  8月12日,据台媒报道,台积电在先进半导体制造工艺领域的领先优势正日益扩大,预计明年将正式迈入2nm工艺时代,并有望在这一细分市场中占据高达95%的垄断性份额。  根据台积电官方公布的信息,其2nm节点N2技术采用业界领先的纳米片(Nanosheet)晶体管架构,相比上一代3nm制程,晶体管密度提升15%,在相同电压下可实现15%的性能提升,或在同等性能条件下降低24%至35%的功耗,为全制程节点带来了显著的效能及功耗进步。  尽管三星是唯一在2nm节点上与台积电形成有限竞争的厂商,且近期与特斯拉签署了价值165亿美元的大单,被视为其先进工艺技术日渐成熟的标志,但分析师普遍认为,在2nm节点上,三星仍难以撼动台积电的市场主导地位。  摩根士丹利最新发布的研究报告显示,随着2026年2nm工艺进入量产阶段,台积电的N2工艺产品预计将占据90%至95%的市场份额,留给其他半导体制造商的空间极为有限。  苹果公司将成为台积电2nm工艺的首批大客户,据传其iPhone 18系列智能手机将全面采用2nm工艺芯片,这将为台积电的业绩增长提供强劲动力。与此同时,人工智能芯片也将是台积电2nm工艺的重要应用领域,NVIDIA、AMD及Intel等芯片巨头也已确认将采用这一先进制程,不过这些产品的量产进度预计将晚于苹果产品,初期产能仍将优先保障苹果的需求。
2025-08-13 15:32 reading:599
台积电2nm良率已达90%,美国厂将快速满产
  6月3日消息,据台媒报道,台积电美国亚利桑那州4nm晶圆厂已经量产,英伟达(NVIDIA) 的AI芯片正在该晶圆厂进行工艺验证,预计将于今年年底进入量产。此外,苹果、AMD、高通、博通等美国客户也将会在该晶圆厂投产。这也将使得台积电美国4nm晶圆厂产能利用率快速满产,最大月产能可能会达到24000片。  有业内传闻称,由于客户对台积电亚利桑那州晶圆厂的产能需求旺盛,台积电计划对该晶圆厂的代工报价上调30%,当然美国本土高昂的制造成本是推升价格上涨的最大因素。  与此同时,台积电的 2nm 制程似乎也取得了长足的进步。据台媒报道,该公司凭借其尖端技术实现了超过 90% 的良率,不过目前的高良率适用于存储产品。  根据预计,台积电2nm明年的流片量将达到过去5nm量产次年流片量的4倍。流片是最终确定的芯片设计,是制造前流程的最后阶段。  分析师正在利用晶圆切割和抛光公司的收入和需求作为参考来确定对台积电 2nm 和 3nm 工艺的需求。  Kinik Company 和 Phoenix Silicon International Corporation 这两家公司对其金刚石砂轮工具的需求越来越大。金刚砂轮主要用于晶圆的切割、研磨和抛光等工序。根据市场报告,Kinik 在 台积电的 3nm 工艺技术中占据 70% 的市场份额。该公司已将其月产能提高到 50,000 张砂轮,消息人士补充说,随着台积电增加 2nm 产量,其砂轮收入将实现环比(季度环比)增长。
2025-06-03 13:35 reading:810
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